Ang electron beam evaporation method usa ka matang sa vacuum evaporation coating, nga naggamit sa electron beams aron direkta nga ipainit ang evaporation material ubos sa vacuum nga kondisyon, i-vaporize ang evaporation nga materyal ug i-transport kini ngadto sa substrate, ug i-condense ang substrate aron maporma ang nipis nga pelikula.Sa electron beam heating device, ang gipainit nga substansiya gibutang sa usa ka water-cooled crucible, nga makalikay sa reaksyon tali sa evaporation material ug sa crucible wall ug makaapekto sa kalidad sa pelikula.Ang daghang mga crucibles mahimong ibutang sa aparato aron makab-ot ang dungan o lahi nga pag-alisngaw ug pagdeposito sa lainlaing mga sangkap.Uban sa electron beam evaporation, bisan unsa nga materyal mahimong evaporate.
Ang pag-alisngaw sa electron beam mahimong moalisngaw sa high-melting point nga mga materyales.Kung itandi sa kinatibuk-ang pagsukol sa pagpainit sa evaporation, kini adunay mas taas nga thermal efficiency, mas taas nga beam current density, ug mas paspas nga evaporation speed.Film ug pelikula sa nagkalain-laing optical nga materyales sama sa conductive glass.
Ang kinaiya sa electron beam evaporation mao nga kini dili o panagsa ra pagtabon sa duha ka kilid sa target tulo-ka-dimensional nga gambalay, ug kasagaran lamang deposito sa target nawong.Kini ang kalainan tali sa electron beam evaporation ug sputtering.
Ang evaporation sa electron beam sagad nga gigamit sa natad sa panukiduki ug industriya sa semiconductor.Ang gipadali nga enerhiya sa elektron gigamit sa paghapak sa materyal nga target, hinungdan nga ang materyal nga target moalisngaw ug mobangon.Sa katapusan gibutang sa target.
Oras sa pag-post: Dis-02-2022