Metal rotary nga target
Deskripsyon sa Produkto
Metal Rotary Target
Ang orthogonal magnetic ug electric field gipadapat taliwala sa sputtering target (cathode) ug sa anode.Ug pun-a ang gikinahanglan nga inert gas (kasagaran Ar gas) sa taas nga vacuum chamber.Ubos sa aksyon sa usa ka electric field, ang Ar gas gi-ionize ngadto sa positibo nga mga ion ug mga electron.Usa ka piho nga negatibo nga taas nga boltahe ang gipadapat sa target, ang mga electron nga gipagawas sa target naapektuhan sa magnetic field, ang posibilidad sa ionization sa pagtaas sa nagtrabaho nga gas, usa ka high-density nga plasma ang naporma duol sa cathode, ug ang mga Ar ion naapektuhan. pinaagi sa pwersa sa Lorentz.Dayon pagpadali sa paglupad ngadto sa target nga nawong, ug pagpamomba sa target nga nawong sa taas nga tulin, aron ang mga sputtered atoms sa target mosunod sa prinsipyo sa momentum conversion, molupad gikan sa target nga nawong ngadto sa substrate, ug magdeposito og taas nga kinetic energy film.
Aron mapauswag pa ang rate sa paggamit sa target nga materyal, ang usa ka rotating cathode nga adunay mas taas nga kahusayan sa paggamit gidisenyo, ug ang usa ka tubular target nga materyal gigamit alang sa sputtering coating.Ang pag-uswag sa mga kagamitan sa sputtering nanginahanglan nga usbon ang target gikan sa usa ka patag nga porma ngadto sa usa ka tubular nga porma, ug ang rate sa paggamit sa tubular rotating target mahimong ingon ka taas sa 70%, nga kadaghanan nagsulbad sa problema sa ubos nga paggamit sa patag nga target.
| Ngalan sa mga produkto | Metal rotary nga target |
| Materyal nga | W, Mo, Ta, Ni, Ti, Zr, Cr, TiAl |
| Hot sale size | ID-133/ OD-157x 3191mm ID-133/OD-157 X 3855mm ID-160/OD-180x1800mm Mahimo usab nga iproseso sumala sa piho nga mga kinahanglanon sa mga kustomer |
| MOQ | 3 ka buok |
| Pakete | Ply nga kahoy nga kaso |
Mubo nga sulat: Nag-una kami og lain-laing mga metal nga mga target, palihog konsultaha kami alang sa mga detalye.
Aplikasyon
Ang sputtering coating usa ka bag-ong klase sa physical vapor coating method.Kung itandi sa evaporation coating method, kini adunay klaro nga mga bentaha
sa daghang aspeto.Ang metal sputtering target gigamit sa daghang natad.Ang nag-unang aplikasyon sa rotating target.
■Mga selula sa solar
■Arkitektural nga bildo
■Awto nga bildo
■Semiconductor
■Flat-screen TV, ug uban pa
Impormasyon sa Order
Ang mga pangutana ug mga order kinahanglang maglakip sa mosunod nga impormasyon:
☑Target nga detalye ID×OD×L (mm).
☑Gikinahanglan ang gidaghanon.
☑Palihug kontaka kami alang sa dugang nga espesyal nga mga panginahanglan.
